我国造不出来美国也相同造不出EUV光刻机

  众所南周知，在现在的芯片制作工艺上，EUV光刻机是任何芯片企业绕不过去的一台设备。

  由于EUV光刻机，可用来制作5nm及以下的芯片，而且假如你要大规模制作5nm及以下的芯片，有必要用到EUV，佳能的NIL设备，说是说能制作5nm芯片，但没有通过大规模验证。

  而现在国内的水平，应该还处于第4代，也便是ArF光刻机的水平，也便是干式DUV光刻机，离滋润式都还差一代，离EUV还差2代。

  也正由于如此，许多人一而再，再而三的表明，国产光刻机水平，和ASML比较，相差有20年，由于ASML在2003年就制作出了榜首代滋润式光刻机，距今现已20年了，咱们要尽力造出EUV才行，不然便是水平不行。

  现实确实是现实，但ASML能够成功，有许多外部条件，以及一些命运、机会等在里面。

  EUV光刻机很杂乱，全球有5000多家供货商，一共有45万多套零件，留意这儿的单位是“套”，所谓的“套”，是指现已做了一些整合的零件了。这45万多套零件，实际上还能够再拆分，按最小单位来算的线万个。

  ASML最大的才能，并不是研宣布EUV光刻机，实际上EUV光刻机的原型，是美国研宣布来的，最终发现这玩意太杂乱了，本钱高，能不能有所作为还不知道，自己都不想干了。

  所以交给了ASML，然后intel、三星、台积电等更是入股ASML，一同来开展EUV光刻机技能。

  最终ASML拿到技能，再和intel等晶圆厂一同验证，再拉上蔡司等供应链，通过了多年研讨，才把EUV光刻机制作出来。

  ASML最大的才能，并不是在于从0到1研制EUV光刻机，其实是整合了全球供应链，让5000多家厂商合力，将EUV光刻机组装了出来。

  前段时间，intel买了ASML的EUV光刻机，ASML用了250个货箱来运送，然后再派了250个工程师来装置，最终花了180天才装完，可见这样的一个进程有多杂乱。

  ASML走到今日，也是一步一步，花了10多年的探索，所以说，我国现在造不出EUV光刻机来，美国实际上也是造不出来的，乃至除了ASML之外，全球就没有其它国家能够造出来。

  而且，现在来看，全球也只能有一家EUV光刻机厂商，由于商场其实只要那么大，多一家后，供过于求，于整个职业都晦气。

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